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フェノール・クレゾール類

コールタールを蒸留・精製し、

高純度のフェノール類を製造しています。

基礎化学品として、フェノールは樹脂、難燃剤の原料として使用されています。またクレゾール類は半導体封止材、絶縁ワニス、薬品の原料として使用されています。

コールタールを蒸留・精製し、高純度のフェノール類を製造しています。
特徴
  • 連続蒸留・回分蒸留を組み合わせ、高純度な石炭酸を高歩留で製造しています。
  • 特にフェノール、O-クレゾール、mpクレゾールは硫黄、塩基等の濃度が低く、合成系並の品位を有します。
  • ドラム缶、ローリー、ISOコンテナでの出荷に対応出来ます。
石炭酸製品の組成(代表例)
フェノール O-クレゾール mp-クレゾール
フェノール [%] 99.87 0.06 0.01以下
O-クレゾール [%] 0.13 99.93 0.05
mp-クレゾール [%] 99.30
N [ppm] ≦1 ≦1 ≦1
S [ppm] 34 14 9
塩基 [ppm] 26
中性油試験 濁度1番 濁度1番 濁度1番

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フェノール

ベンゼン環の水素の1つを水酸基(-OH)で置き換えた構造をしています。
ポリカーボネートの原料となるビスフェノールAおよびフェノール樹脂の用途に多く使用されています。

主な用途
  • フェノール樹脂原料(難燃剤等)
  • 樹脂添加剤原料
  • ポリカーボネートの原料

フェノール

クレゾール類

フェノールベンゼン環の水素の1つをメチル基(-CH3)で置き換えた構造をしています。
メチル基の位置により、3つの異性体があり、それぞれをオルソクレゾール、メタクレゾールおよびパラクレゾールと呼んでいます。
オルソクレゾールは単体として、メタクレゾールとパラクレゾールは混合物として製品化しています。

主な用途
  • フォトレジスト用原料
  • 半導体封止材樹脂原料
  • 農薬中間体
  • 染料
  • ワニス

o – クレゾール

m – クレゾール

p – クレゾール

キシレノール酸

フェノールのベンゼン環の水素の2つをメチル基(-CH3)で置き換えた構造をしています。
メチル基の位置により、6つの異性体があります。
これらを混合状態のキシレノール酸で販売しています。

主な用途
  • エナメルワニス
  • 樹脂添加剤原料

2,6-キシレノール

主な品質
銘柄 純度 (%)
キシレノール酸 ≧80.0
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